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脑电 ERP 分析工具

v1.0.6 作者:Qmind 更新于 2026-10-12
EEGERP分析统计

脑电 ERP 分析工具

插件简介

脑电 ERP 分析工具面向采集完成后的离线处理流程,用于对事件相关电位数据进行清洗、分段、叠加平均、成分测量和条件对比。它适合用于 P300、N170、N200、ERN、LPP 等常见 ERP 成分分析。

核心功能

  • 数据预处理:支持带通滤波、陷波滤波、重参考和坏道标记。
  • 事件分段:根据 trigger 自动切分 epoch,支持自定义时间窗。
  • 基线校正:对每个 epoch 进行基线区间校正。
  • 伪迹处理:基于振幅阈值、峰峰值和手动标记剔除异常试次。
  • 叠加平均:按条件、通道和被试维度生成 ERP 平均波形。
  • 成分测量:提取峰值、潜伏期、平均振幅和时间窗积分指标。
  • 条件对比:支持多条件 ERP 波形叠加、差异波和统计表导出。

典型分析流程

  1. 导入 EEG 数据和事件标记。
  2. 设置滤波、重参考和 epoch 时间窗。
  3. 执行基线校正和伪迹剔除。
  4. 按实验条件叠加平均 ERP 波形。
  5. 在指定通道和时间窗内提取 ERP 成分指标。
  6. 导出图表、统计表和分析报告。

常用参数

参数 示例 说明
Epoch 时间窗 -200 ms 至 800 ms 相对事件触发点的分析区间
基线区间 -200 ms 至 0 ms 用于基线校正的时间段
带通滤波 0.1 Hz 至 30 Hz 常见 ERP 预处理设置
伪迹阈值 +/- 100 uV 剔除异常振幅试次
测量窗口 300 ms 至 500 ms 如 P300 成分的平均振幅窗口

输出内容

ERP 平均波形
条件差异波
峰值与潜伏期表
平均振幅统计表
分析报告图表

适用场景

  • 认知实验 ERP 数据分析
  • P300 注意与决策相关成分测量
  • N170 面孔加工成分分析
  • 错误相关负波 ERN 分析
  • 多条件、多被试 ERP 波形对比